येट्रियम फ्लोराइड

उत्पाद का नाम: येट्रियम फ्लोराइड

उत्पाद उपनाम: येट्रियम फ्लोराइड पाउडर, निर्जल येट्रियम फ्लोराइड

रासायनिक सूत्र: YF3

सीएएस संख्या: 13709-49-4

ईआईएनईसीएस संख्या: 237-257-5

शुद्धता: 99.999%

सूरत: सफेद पाउडर

आणविक भार: 145.90

गलनांक: 1387 डिग्री

क्वथनांक: 2230 डिग्री

घनत्व: 4.01 ग्राम/सेमी3

घुलनशीलता: पानी में अघुलनशील, हाइड्रोक्लोरिक एसिड, नाइट्रिक एसिड और सल्फ्यूरिक एसिड में मुश्किल से घुलनशील, लेकिन पर्क्लोरिक एसिड में घुलनशील

उत्पादन मानक: एन/ए

पैकेजिंग: प्लास्टिक की बोतलों में, प्लास्टिक की थैलियों से सुसज्जित और सुरक्षा के लिए या ग्राहकों की आवश्यकताओं के अनुसार आर्गन गैस से भरा हुआ

1. रासायनिक विधि: येट्रियम ऑक्साइड को हाइड्रोक्लोरिक एसिड में घोलें और इसे 100~150g/L (Y2O3 के रूप में गणना) तक पतला करें, घोल को 70~80 डिग्री तक गर्म करें, और फिर 48% हाइड्रोफ्लोरिक एसिड के साथ अवक्षेपित करें। येट्रियम फ्लोराइड प्राप्त करने के लिए अवक्षेप को धोया जाता है, फ़िल्टर किया जाता है, सुखाया जाता है और चूर्णित किया जाता है, और वैक्यूम निर्जलित किया जाता है।

2. येट्रियम हाइड्रॉक्साइड प्राप्त करने के लिए अमोनिया जल के साथ येट्रियम नाइट्रेट अवक्षेपित करें। अवक्षेप को धोएं और इसे प्लैटिनम डिश में घोलने और वाष्पित करने के लिए बार-बार हाइड्रोफ्लोरोइक एसिड डालें;

शुष्क संश्लेषण: प्लैटिनम क्रूसिबल में कुछ मिलीग्राम Y2O3 डालें और इसे प्लैटिनम वैक्यूम उपकरण में रखें, खाली करें, और सूखी H2 और HF मिश्रित गैस में प्रवाहित करें। तापमान 700 डिग्री तक बढ़ जाता है और 2 घंटे तक बना रहता है। गैसीय पदार्थ को हटाने के लिए फिर से ठंडा करें और वैक्यूम करें। उत्पाद के कुछ मिलीग्राम को प्लैटिनम क्रूसिबल में 1400 डिग्री तक गर्म किया जाता है, जिसमें वैक्यूम का उपयोग किया जाता है। 2 डिग्री/मिनट का, और अंत में तेजी से कमरे के तापमान तक गिर गया। YF3 एकल क्रिस्टल प्राप्त करें;

गीला संश्लेषण: 5 से 15 mg Y2O3 को 4 mL HCl (6 mol/L) में घोलें, 6 mol/L अमोनिया मिलाएं जब तक कि जेल जैसा हाइड्रॉक्साइड दिखाई न दे, घोल को फिर से स्पष्ट करने के लिए HCl मिलाएं। घोल को एक प्लास्टिक ट्यूब में रखा जाता है जो एचएफ संक्षारण के लिए प्रतिरोधी है, उबलते पानी के स्नान में गरम किया जाता है, और 1 से 2 एमएल केंद्रित हाइड्रोफ्लोरिक एसिड मिलाया जाता है। 1 घंटे तक गर्म करने के बाद सेंट्रीफ्यूज करें और 100 से 150 डिग्री पर सुखाएं। परिणामी सामग्री को विद्युत भट्टी में 1 घंटे (वैक्यूम डिग्री 10-5 ~10-6mmHg) से t{16}}~1400 डिग्री तक गर्म किया जाता है।

येट्रियम फ्लोराइड का उपयोग मुख्य रूप से येट्रियम धातु और उसके मिश्र धातु, क्रिस्टल लेजर सामग्री, अप-रूपांतरण ल्यूमिनसेंट सामग्री, विशेष ग्लास, ऑप्टिकल फ्लोराइड ग्लास फाइबर, रासायनिक सेंसर और बायोसेंसर, लैंप इलेक्ट्रोड और स्प्रे सामग्री आदि तैयार करने के लिए किया जाता है।

यट्रियम फ्लोराइड, एक क्रिस्टल सामग्री के रूप में, थर्मल वाष्पीकरण के माध्यम से एक फिल्म में बनाया जा सकता है। वाष्पीकरण दर बहुत स्थिर है और पारदर्शिता अच्छी है। इसका उपयोग LED डिस्प्ले के क्षेत्र में किया जाता है।

इसके अलावा, येट्रियम फ्लोराइड की इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग में भी काफी अनुप्रयोग क्षमता है। येट्रियम फ्लोराइड डोपिंग बेरियम स्ट्रोंटियम टाइटेनेट के ढांकता हुआ गुणों में सुधार कर सकता है; येट्रियम फ्लोराइड इलेक्ट्रॉन इंजेक्शन परत OLED उपकरणों के प्रदर्शन में सुधार कर सकती है; येट्रियम फ्लोराइड फिल्मों का उपयोग विभिन्न सबस्ट्रेट्स पर एंटी-रिफ्लेक्शन कोटिंग्स के डिजाइन में भी व्यापक रूप से किया जाता है।

येट्रियम फ्लोराइड का उपयोग माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक उत्कीर्णन मशीनों या अन्य प्लाज्मा नक़्क़ाशी मशीनों में भी किया जाता है; येट्रियम फ्लोराइड का उपयोग उच्च ईंधन सेल ठोस इलेक्ट्रोलाइट कोटिंग, उच्च तापमान ईंधन सेल इलेक्ट्रोड कोटिंग, ऑक्सीजन संवेदनशील सेंसर इलेक्ट्रोलाइट कोटिंग, ऑक्सीजन संवेदनशील सेंसर इलेक्ट्रोड कोटिंग के रूप में भी किया जा सकता है।

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